关键技术规格
| 参数项 | 规格 / 说明 |
|---|---|
| 产品型号 | 0040-00555 |
| 制造商 | Applied Materials（美国原产） |
| 产品类别 | 腔体屏蔽件 / 前屏蔽板（Chamber Shield / Front Shield） |
| 主体材质 | 高纯度 316L 真空级不锈钢 |
| 表面处理 | 电解抛光 + 钝化，Ra≤0.8 μm |
| 耐温范围 | -20°C ~ +600°C（真空环境） |
| 耐腐蚀 | 耐 HF、H₂O₂、NH₃、Ar、N₂ 等半导体工艺气体与化学品 |
| 真空密封性 | 漏率 ≤1×10⁻⁹ mbar·L/s |
| 兼容气体 | 惰性气体（Ar、N₂）、反应性气体（O₂、H₂、NH₃、SiH₄ 等） |
| 兼容设备 | AMAT Endura PVD、Centura CVD、Producer Etch 等 |
| 兼容平台 | 200 mm / 300 mm 晶圆制造平台 |
| 兼容工艺 | 物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、刻蚀（Etch） |
| 替代型号 | 0040-00550（同系列前挡板） |
| 配套件 | Chamber Liner、Showerhead、Shadow Ring、Process Kit 等 |
| 安装方式 | 腔室内嵌式安装，真空密封 |
| 生命周期状态 | 原厂已停产，依赖二手/翻新渠道 |
| 认证标准 | SEMI S2、SEMI F47；材料符合 ASTM A240、AMS 5507；真空性能符合 ISO 14644 洁净室标准 |
| 重量 | 约 1 kg（以实物铭牌为准） |
| 成色 | 原厂停产件，市场供应以二手（Used）/ 专业翻新件为主 |
📌 经销商页对该件的尺寸、重量描述差异极大（有标 150 kg/1000 mm 的 ，也有标 2.5 kg/500 mm 的 ，另有 2 kg/150 mm 的说法 ），精确尺寸请以实物铭牌或到货检测为准。上文核心参数以深圳灿欣等较完整的技术资料页为主 。
产品深度介绍
晶圆厂的 PVD/CVD/刻蚀腔室里，0040-00555 是一块”挡枪”的板子——它卡在腔室反应区和外壁结构之间，把溅射粒子、反应副产物、等离子腐蚀全部拦在自己身上，保护腔室壁、加热器、电极这些”贵价核心”不被侵蚀 。原厂虽已停产 ，但它在 Endura、Centura、Producer 等 AMAT 主力机台上仍是高频更换的消耗件——毕竟再贵的设备，腔室脏了也得开腔维护。
这块屏蔽件用的是高纯度 316L 真空级不锈钢，电解抛光后表面粗糙度 Ra≤0.8 μm ，这个数值在半导体真空件里是关键指标：表面越光滑，颗粒越不容易附着，腔室清洁周期越长。-20°C ~ +600°C 的耐温范围覆盖了 PVD/CVD 工艺的极端热循环 ，漏率 ≤1×10⁻⁹ mbar·L/s 保证了高真空环境的气密性 。材料本身耐 HF、H₂O₂、NH₃ 等腐蚀性工艺气体 ，这意味着它在刻蚀和清洗工艺中不会被自己保护的工艺”反噬”。
作为 AMAT 原厂件，0040-00555 与 0040-00550（同系列前挡板）形成替换关系 ，与 Chamber Liner、Showerhead、Shadow Ring、Process Kit 等构成完整的腔室工艺套件 。模块化的设计让维护工程师可以快速拆卸、清洗、更换，缩短开腔维护的停机时间——对晶圆厂来说，腔室每少停一小时，就是实打实的产能。
