ASML MC1AB37 4022.437.1856

支持EtherCAT、CANopen等工业总线协议,可无缝对接ASML光刻机的自动化控制系统。

提供模块化接口,兼容不同规格的直线电机与旋转电机,适配光刻机多样化运动需求。

节能与低发热设计

功率优化算法降低能耗,空载功耗≤5W,满载时温升控制在20℃以内,延长设备寿命。

 

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描述

ASML MC1AB37 4022.437.1856电机控制器产品简介

产品概述

型号:MC1AB37 4022.437.1856是ASML(荷兰阿斯麦集团)为光刻设备定制的高精度电机控制器,专为半导体制造中的纳米级运动控制设计。该控制器集成多轴同步控制、动态误差补偿及抗干扰算法,支持光刻机核心模块(如晶圆台、掩模台)的亚纳米级定位,确保芯片制造工艺的高精度与稳定性。

主要特点和优势

纳米级运动控制

支持单轴重复定位精度达±0.1nm,多轴同步误差≤1nm,满足EUV光刻机对晶圆与掩模对准的严苛要求。

采用实时反馈与前馈控制算法,动态响应时间≤1ms,适应高速曝光场景下的运动需求。

高可靠性与抗干扰性

通过电磁屏蔽与温度补偿技术,抑制环境振动、电磁干扰对控制精度的影响,防护等级达IP67。

冗余电源设计与故障自检功能,确保光刻机连续运行稳定性。

多协议兼容与扩展性

支持EtherCAT、CANopen等工业总线协议,可无缝对接ASML光刻机的自动化控制系统。

提供模块化接口,兼容不同规格的直线电机与旋转电机,适配光刻机多样化运动需求。

节能与低发热设计

功率优化算法降低能耗,空载功耗≤5W,满载时温升控制在20℃以内,延长设备寿命。

技术规格

参数项规格值

型号MC1AB37 4022.437.1856

定位精度±0.1nm(单轴)

同步误差≤1nm(多轴)

动态响应时间≤1ms

通信协议EtherCAT、CANopen

防护等级IP67

工作温度10℃至40℃

电源要求24V DC(±10%)

应用领域

半导体制造:控制光刻机晶圆台、掩模台的微米级移动,确保5nm及以下芯片的曝光精度。

自动化产线:驱动精密机械臂、传送带等设备,提升半导体封装与检测效率。

纳米技术:支持纳米级3D打印、微流控芯片制造中的高精度运动需求。

科研设备:应用于光学显微镜、粒子加速器等对定位精度要求极高的实验仪器。

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Rockwell Allen-Bradley: SLC500/1747/1746、 MicroLogix/1761/1763/1762/1766/1764、

CompactLogix/1769/1768、

Logix5000/1756/1789/1794/1760/1788、PLC-5/1771/1785等。

Invensys Foxboro(福克斯波罗):I/A Series系统,FBM(现场输入/输出模块)顺序控制、梯形逻辑控制、事故追忆处理、数模转换、输入/输出信号处理、数据通信及处理等。

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GE FANUC(GE发那科):模块、卡件、驱动器等各类备件,IC693,IC695,IC697 IC698等系列。

Yaskawa(安川):伺服控制器、伺服马达、伺服驱动器。

Bosch Rexroth(博世力士乐):Indramat,I/O模块,PLC控制器,驱动模块等。

Woodward(伍德沃德):SPC阀位控制器、PEAK150数字控制器。

UFC921A101 3BHB024855R0101

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MG160MD2-42FF300-F1

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W4

KUC755AE105 3BHB005243R0105

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