描述
产品概述
在半导体制造中,炉管设备的工艺稳定性直接决定薄膜厚度、掺杂浓度与器件良率。Kokusai Electric 作为全球领先的 垂直炉管设备供应商(市占率超 60%),其 CXP 控制平台 以 高可靠性、微秒级响应与抗高温干扰能力 著称。CXP-544A 与 KOMS-A2 的组合 正是该平台中负责 关键模拟量闭环控制 的标准配置。
✅ 关键识别信息:
主模块标签:CXP-544A(通常为金属封装,带散热鳍片)
子板/协处理器标签:KOMS-A2(较小 PCB,常通过排针插在 CXP-544A 上)
设备平台:Kokusai DCS 系列、Eterna 系列 LPCVD / Diffusion 设备
注意:此组合 非通用 PLC 模块,而是 Kokusai 专有控制系统 的组成部分,不可跨品牌使用。
该模块通常部署在 设备本体控制柜(Local Control Panel) 内,靠近加热区与气体管路,需承受 高温、腐蚀性气体与强电磁场。
技术特性(基于公开资料与行业经验)
表格
主要功能与优势
* 多区精密温控:
– 支持 5–9 区独立加热带控制,实现炉膛轴向/径向温度均匀性。
– 内置 PID 自整定算法,适应不同工艺配方(如 Ramp/Soak)。
气体流量协同控制:
– 同步调节 N₂、O₂、SiH₄、PH₃ 等 MFC,确保反应气体比例稳定。
– 支持 吹扫(Purge)与升压(Pressurize)序列控制。
安全联锁集成:
– 实时监测 炉门位置、冷却水流量、废气压力,触发 EMO(Emergency Off)。
– KOMS-A2 通常负责 设备状态上报(Ready/Fault/Idle)至上位 MES。
快速诊断与恢复:
– 模块故障时,设备可进入 Safe State 而非完全宕机,减少晶圆报废。
– 支持 热插拔更换(需设备处于 Maintenance Mode)。
典型应用场景
LPCVD 多晶硅沉积:控制 600–650°C 温度与 SiH₄/N₂ 流量,形成均匀导电层。
栅氧生长(Gate Oxidation):在 900–1000°C 下精确控制干氧/湿氧比例,生成 1–3 nm 薄膜。
源漏极退火(S/D Anneal):快速升温至 1050°C 并精准冷却,激活掺杂剂。
300mm 晶圆批次处理:单炉次处理 100+ 片,要求全程无温度漂移。
维护与采购提示
固件匹配:
CXP-544A 与 KOMS-A2 的 固件版本必须严格匹配,否则会导致通信失败或控制异常。
更换时需从原设备 备份配置参数(通常存储于 EEPROM)。
静电防护(ESD):
半导体 Fab 环境要求 Class 1 ESD 防护(腕带、防静电袋)。
供应状态:
已停产,属于 “遗留关键备件(Legacy Critical Spare)”。
主要来源:Kokusai 官方翻新件、第三方认证维修件、NOS 库存。
真伪鉴别:
正品丝印清晰,元件布局规整,无飞线或胶封修补。
仿品常使用民用级运放,高温下漂移严重。
替代策略:
新设备已转向 Kokusai Eterna-X 平台(基于工业 PC + EtherCAT)。
老旧设备建议 储备 2–3 套 CXP-544A+KOMS-A2.因其故障将导致整台炉管停机。
深圳长欣承诺:所供 KOKUSAI CXP-544A KOMS-A2 均来自 经认证的半导体设备维修渠道,每套均经过:
✅ 功能测试(模拟热电偶输入、MFC 输出、通信握手)
✅ 老化 burn-in(48 小时 @ 60°C)
✅ 固件版本核对与配置备份
✅ ESD 安全包装(防静电铝箔袋 + 泡棉)
支持 6个月质保 与 安装指导,助力您的晶圆产线持续高效运行。
Technical Summary (English):
The Kokusai CXP-544A with KOMS-A2 is a proprietary process control module for vertical/horizontal furnace systems used in semiconductor LPCVD, diffusion, and oxidation. It delivers high-precision multi-zone temperature control (±0.5°C), synchronized gas flow management, and safety interlocking—critical for 200mm/300mm wafer fabrication. As a legacy but mission-critical component in Kokusai DCS/Eterna platforms, it remains essential for maintaining yield in existing fabs worldwide.



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